开发分辨率1.5 μm（L/S）数字光刻机

株式会社贝斯特官网（Nikon），，，正在开发面向半导体器件制作后道工艺先进封装，，，分辨率为1.5 μm※1（L/S※2）的逾越产性数字光刻机。。本产品的产出指标较已于2025年7月起头接受订单的1.0 μm（L/S）数字曝光设备“DSP?100” ※3的50 panels/hour提升30%以上，，，达到65 panels/hour以上※4。。该产品打算于2027财年内上市。。

目前已接受订单的分辨率为1.0 μm（L/S）的数字光刻机“DSP-100”

天生式人为智能的遍及推动了GPU（图像处置半导体）及HBM（高带宽内存）等次世代半导体器件的需要持续扩大，，，将多枚半导体芯片并列衔接的先进封装选取趋向也在加快。。为提升出产效能，，，对面板级封装（Panel Level Packaging）的需要亦在上升；与此同时，，，用于衔接多芯片的大型互连衬底或 FC-BGA 基板※5 的布线所需的分辨率会因客户选取的制程而多样化。。

为响应客户多样化需要，，，贝斯特官网将扩充数字光刻机产品阵容。。除已接受订单、分辨率为1.0 μm（L/S）的“DSP?100”外，，，贝斯特官网正开发搭载合用于1.5 μm（L/S）分辨率的光学系统并进一步提逾越产性的数字光刻机。。此外，，，该产品可通过更换光学系统，，，作为分辨率1.0 μm（L/S）的“DSP-100”使用，，，以矫捷应对客户将来的需要。。

贝斯特官网的数字光刻机因无需光掩膜（photomask），，，可有效降低客户成本并缩短产品开发与制作周期。。此外，，，贝斯特官网兼具半导体光刻机的高分辨率技术与FPD曝光设备的逾越产性，，，并占有多年开发与销售两类设备的丰富经验及美满的服务系统。。今后我们将持续通过提供最切合客户需要的曝光设备，，，为高附加值半导体制作做出贡献。。

※1 1微米（μm）为百万分之一米（千分之一毫米）
※2 Line and Space的简称。。指电路图案的线宽和相邻图案之间的间距
※3 “DSP?100”为分辨率1.0 ?m（L/S）的数字曝光设备，，，已于2025年7月起头接受订单。。拜见新闻稿：：