满足各类工艺要求
既能与现有设备兼容，，，又能满足各类工艺要求的曝光设备。。
NSR-2205iL1 i线步进式光刻机，，，可与各类半导体器件共同使用。。该设备性价比优异，，，对晶圆材质的包涵性强，，，能为各类半导体器件的高效能出产做出贡献。。它与贝斯特官网现有的i线步进式光刻系统高度兼容，，，是既有的梦想代替产品。。
i线步进式光刻机NSR-2205iL1
满足各类工艺要求
NSR-2205iL1
2023年8月31日颁布新品信息
缩小投影倍率5倍i线步进式光刻机
介绍视频
NSR-2205iL1的特点
应对多样化需要实现高性价比
与贝斯特官网既有设备的高兼容性
为持久使用而设计的设备
应对多样化需要，，，实现高性价比
应对功率半导体、、、通讯誉半导体，，，MEMS等
各类器件
- 兼容各类晶圆尺寸、、、厚度和翘曲度
- 支持晶圆尺寸切换，，，扩大客户使用领域
- 建设Wide DOF（扩大景深）和多点自动对焦（AF）
- 加强对化合物半导体工艺的应对
产品定位图
与贝斯特官网既有设备的高兼容性
为持久使用而设计的设备
正在使用贝斯特官网的i线曝光设备的客户，，，能够持续使用所持有的资产（mask、、、recipes等）
我们持续支持客户的出产活动，，，致力成为客户的合作同伴。。
- 能够持续使用所持有mask、、、recipes等
- 提升守护性
- 着眼持久利用，，，从零部件层面审查设计
重要机能
| 分辨率 | ≦ 350 nm※1 |
|---|---|
| NA | 0.45 |
| 曝光光源 | i-line (365 nm wavelength) |
| 缩小倍率 | 1:5 |
| 最大曝光领域 | 22 mm × 22 mm |
| 重合精度 | SMO※2: ≦ 70 nm※1 |
| 重要特点 |
|
※1 option选项
※2 SMO (Single Machine Overlay)：统一型号机械之间的重合精度
展会信息
SEMICON SEA 2024
2024年5月28日～30日
MITEC, Kuala Lumpur, Malaysia
SEMICON WEST
2024年7月9日～11日
Moscone Center, San Francisco, CA, U.S.A.
如有关于缩小投影倍率5倍i线步进式光刻机「NSR-2205iL1」的有关疑难，，，请与我们联系。。
