缩小投影倍率5倍 i线步进式光刻机「NSR-2205iL1」

株式会社贝斯特官网（社长：Toshikazu Umatate，，东京都港区）为应对功率半导体、、、通讯誉半导体，，MEMS等各类器件，，发售与既有设备代替性高的缩小投影倍率5倍 i线步进式光刻机NSR-2205iL1。该设备性价比优异，，对晶圆材质的包涵性强，，能为各类半导体器件的高效能出产做出贡献。为时隔25年^※1发售的缩小投影倍率为5倍的i线步进式光刻机。

※1 以「NSR- 2205i14E2」从1999年接单起算

发售概况

商品名	缩小投影倍率5倍 i线步进式光刻机NSR-2205iL1
发售功夫	2024年夏季左右

开颁布景

随着电动汽车和高速通讯，，各类IT设备的遍及，，与此相应的半导体的需要也不休升高。为应对多样的半导体机能的要求，，客户对曝光设备的要求也越来越复杂和精密。

迄今为止，，贝斯特官网一向通过翻新二手设备来满足客户的的需要。为了缓解客户既有设备老化以及新i线设备供需严重的矛盾，，贝斯特官网基于”客户伴走活动”所知，，推出缩小投影倍率5倍i线步进式光刻机来提供客户最相宜的解决规划。此外，，通过扩充对应分歧需要的产品选项，，贝斯特官网会持续地，，持久地支持半导体客户的出产。

重要特点

■ 应对多样化需要，，实现高性价比

多点自动对焦(AF)以实现晶圆丈量高精度化，，晶圆台Leveling^※2机能加强、、、Wide DOF（焦点深度领域扩大）等，，使各类半导体制作工艺维持良率水准的同时，，实现较逾越产机能。此外，，晶圆的厚度、、、巨细、、、翘曲的对应领域加强后，，亦可合用于SiC（碳化硅 ）和GaN（氮化镓）等素材，，用处上也得以越发宽泛使用。如此通过应对多样化需要，，实现了高性价比。

※2  在曝光过程中使晶圆台倾斜，，以赔偿曝光图像与基底理论之间的误差。

■ 与既有设备的高兼容性

正在使用贝斯特官网的i线曝光设备的客户，，所持有的原有资产（mask、、、recipes等）能够持续使用，，能够轻松代替既有设备。

■ 为持久使用而设计的设备

设备中使用的一部门零件由特定品到市场上流通性高的通用品的代替，，与之前相比零件的购入越发单一，，以实现设备的持久使用。

重要机能

分辨率	≦ 350 nm※3
NA	0.45
曝光光源	i-line (365 nm wavelength)
缩小倍率	1:5
最大曝光领域	22 mm x 22 mm
重合精度	SMO※4 : ≦ 70 nm※3